11月29日，中科院研发的“超分辩光刻配备”经过检验。音讯传着传着，就成了流言——《国产光刻机巨大打破，国产芯片白菜化在即》《打破荷兰技能封闭，弯道超车》《厉害了我的国，新式光刻机将打破“芯片荒”》……
笔者正好去中科院光电所旁听此次检验会，写了报导，还算了解，无法苟同一些漫无边际的瞎扯。
中科院研发的这种光刻机不能（像一些网媒说的）用来光刻CPU。它的含义是用廉价光源完成较高的分辩率，用于一些特别制作场景，很经济。
先解说下：光刻机不光是制作芯片用。一张平面（不管硅片仍是什么资料）想刻出繁复的图画，都可以用光刻——就像照相，图画投在感光底片上，蚀掉一部分。半个多世纪前，美国人用这个原理“印刷”电路，然后有了大规模集成电路——芯片。
为了节能和省硅料，芯片越做越小，逼得光刻机越做越极点。线条细到某些特定的程度，投影就含糊了。要明晰投影，线条粗细不能低于光波长的一半。顶尖光刻机用波长13.5纳米的极紫外光源，好刻10纳米以下的线条。
但安稳的、大功率的极紫外光源很难造，一个得3000万元人民币。要求工作环境苛刻，合作的光学和机械部件又极点精细，所以荷兰的ASML公司独家独占极紫外光刻机，发明了“一台卖一亿美金”的神话。
十几年前，国际上开端对外表等离子体（surfaceplasma，SP）光刻法感兴趣。中科院光电所从2003年开端研讨，是较早出成果的一个团队。所谓SP，光电所的科学家杨勇向笔者解说：拿一块金属片和非金属片密切触摸，界面上有一些乱蹦的电子；光投影在金属上，这些电子就有序地震动，发生波长几十纳米的电磁波，可用来光刻。
但这种电磁波很弱，所以光刻胶得凑近了，才干刻出来。且加工精度与ASML的光刻机无法比。刻几十纳米级的芯片是无法用SP光刻机的，至少以现在的技能不能。
检验会上也有记者问：该光刻设备能不能刻芯片，打破国外独占？光电所专家回答说，用于芯片需求霸占一系列技能难题，间隔还很悠远。
总归，中科院的22纳米分辩率光刻机跟ASML独占的光刻机不是一回事，说前者弯道超车，就好像说我国出了个竞走名即将逾越博尔特。
各家媒体第一时间报出的信息，就我看到的还算中规中矩。但后来网媒添油加醋，搞到离谱。有些传播者为招引眼球、挣钱，独爱制作“自嗨文”和“吓尿体”。听到国产科技成就先往大里吹，驴吹成马，马吹成骆驼，好卖个骆驼价。
这种“科技报导”是满意虚荣心的伪新闻。行家听了眉头一紧，避之大吉。也难怪许多科学家怕上新闻。
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