3月25日，国际光电工程学会（SPIE）的网站上发布了一则消息，这一消息一经曝出，立即在科技领域掀起了巨大的波澜。
中国科学院顺利研制出全固态深紫外（DUV）激光，其光源波长被设定为193纳米。对于整个行业而言，这堪称一次技术变革，在未来也许会使光刻机的形态发生改变。
在过去的数年之中，西方诸国针对中国实施高端型号光刻机的禁售举措，在技术被严密封锁的这种情形之下，中国究竟是通过何种方式达成目的的呢？
众所周知，光刻机属于制造芯片的核心设备，要是没有光刻机的话，芯片生产线就如同一堆废铁一般毫无用处。
简单来说，DUV激光就如同给芯片绘图的设备，光源的波长越短，能够绘制的线条就越精细，芯片的性能自然也就越强劲。
193纳米这一个数字十分关键，DUV光刻机的主流工艺全都依靠它来维持，其工艺能达到7纳米乃至3纳米的水平。
中科院此次的突破，完全摒弃了传统的方式，没有采用荷兰ASML的氟化氙准分子激光技术，而是凭借谐波转换与光学参数放大，硬是搞出了一套全新的方案。
此光源的体积较为小巧，能耗相较于传统的要低70%，并且不会释放有毒气体，既环保又高效，听起来就很令人心动。
再瞧一瞧哈尔滨工业大学（哈工大）的极紫外（EUV）技术发展状况，其13.5纳米波长的技术着眼于更为高端的工艺，相较于深紫外（DUV）技术又向前跨越了一步。
尽管当前仍然处于实验室阶段，不过一旦与中科院的DUV光源相结合，就会让人觉得中国的光刻机技术仿佛是在双管齐下，逐步地向上发展。
从理论层面来说，要是DUV光源能够应用于生产线纳米工艺就不再只是空想了，而且在未来，一旦EUV发展成熟，那将会朝着2纳米甚至1纳米迈进。
当然，技术不管被描述得多么高深莫测，终究是得落到实处，让大众能够理解。对于外行人来说，他们比较感兴趣的一个问题是，中科院的这套光源厉害在啥地方呢。
简单来讲，它宛如一个更为省油且更为小巧的发动机，将其装配到光刻机之中，能够促使整个机器运转得更为顺畅。
至于是不是真的能够派上用场，这还得取决于后续的光学系统、镜头等部件能否与研发进程相匹配。
光刻机始终是制约发展的关键难题，ASML掌控着高端市场，毫不放松，美国只需轻轻挥动权力之手，就能将中国阻挡在门外。
这就致使中芯国际、华为之类的企业，想要制造出优质芯片，却被光刻机严重制约。
现如今中科院弄出这般大的动作，人们很难不去憧憬未来。假使能够成功实现量产，那中国自主生产高端芯片就有希望了。
说不定到当时，华为的麒麟芯片就又能重新崛起了呢，中芯国际也能够理直气壮起来，不必再仰人鼻息去购买二手的东西了。
在全球范围内来看，这件事情产生的影响是非常巨大的。ASML目前在光刻机领域处于领头羊，其掌握着DUV和EUV技术，就如同拥有印钞机一般。
若中国将这一技术攻克，那便相当于在供应链中涉足一脚，芯片价格战恐怕就要爆发，欧美那些依靠技术封锁为生的日子就会变得艰难，这正是荷兰ASML最为担忧的情形。
分析人士已经着手进行计算了，他们宣称一旦中国实现自给自足，全球半导体市场就必须重新进行布局，这绝非是故意夸大其词，要知道对于芯片这样的产品而言，谁具备制造能力谁就掌握着话语权。
往大的方面去考虑，这种技术并非只能应用于芯片厂，在医疗设施、航空器材等领域或许也能受益。
就拿激光手术来说，其精度或许会更高一些，卫星上面的光学元件也能够制作得更为轻巧，技术最迷人之处就在于你永远没办法预测它能够发展到何种程度。
接下来，我们要做的事情就是把光学系统校准得更为精确，将制造流程稳固下来，力求早日攻克高端工艺制程。
从长远的角度来讲，中国说不定能够直接闯入光刻机技术的第一阵营。ASML耗费了30多年的时间才达到如今的地位，如果中国可以在一定程度上完成后来者居上，那这场翻身仗可就打得极为漂亮了。
然而，我们一定要正视当前存在的差距。从实验室到工厂，其间存在着好几道阻碍，并且专利壁垒犹如一座难以逾越的高山，ASML的那2万多项专利可不是徒有其名的，中国必须摸索出一条属于自身个人的道路。
回首往昔，中国在光刻机领域的发展历史充满了艰辛，这简直能够谱写一部满是血泪的历史。
在20世纪90年代的时候，芯片对于中国而言就如同一个遥不可及的传说。更别说是制造光刻机了，就连低端的芯片都要依赖进口，生产线也都是国外的产品。
在那个时候，国内像样的半导体工厂屈指可数，技术方面存在的差距大到令人绝望。进入2010年之后，情况变得更艰难了。
美国主导搞出了一个“瓦森纳协定”，高端光刻机一下子就沦为禁运物品了，哪怕ASML的设备再厉害，中国也没法弄来开展研究。
2019年的时候，中兴与华为相继遭受制裁，芯片供应被切断的那种感受，只有亲身经历过的才知晓，而光刻机成为了一道无法回避的难关。在那几年间，网络上到处都是怨言，都在讲中国的科技被遏制得极为严重，也不知道何时才能够自主制造出一台光刻机来。
实际上，中国一直都没闲着，早年间，上海微电子憋着一股劲儿，研发出了一台90纳米的光刻机。
2002年，当这台机器现身的时候，国内科技领域全都沸腾了，大家都认为终于有了一个开端。
尽管与ASML的顶级产品相比仍存在很大差距，但毕竟有了希望。随后，中科院、清华大学等机构也参与进来，一心扑在光源、光学系统等核心部件的钻研上。
成果已然有许多，但遗憾的是距离量产总是差了那么一点儿。实验室里有一大堆亮眼的论文产出，可工厂却一直无法开工。
彼时，众人皆憋着一股劲儿，可同时又有些气馁，感到这山太过高耸，难以翻越。
2020年之后出现了转折点，彼时国家下定决心，将芯片产业列为重中之重，资金、人才、政策纷纷向这个产业倾斜。
产学研齐心协力、联合行动，逐渐有了转机。到了2025年，在DUV和EUV方面取得的这些突破，总算是熬过了从前的艰难时光。
从90纳米制程一直发展到3纳米制程，从完全依赖进口到自主研发光源，这一历程历经了30余载，每一个阶段都仿佛是在泥泞中艰难跋涉。
科研人员们的工作状态不难想象，想必他们熬夜加班是家常便饭。实验室里一片明亮，仪器发出嗡嗡的声响。他们眼睛紧紧盯着数据，手中握着已经变凉的饭盒，可是内心却满怀希望。
这并非是与谁在斗气，而是期望去证明中国同样能做到。不管技术封锁有多么严苛，都无法阻挡这股不肯服输的劲头。
如今回首往昔，这一路走来实在是万分艰辛，每一回取得突破，都仿佛是于绝境之中强行开辟出一条生路。
中科院的这套深紫外（DUV）光源的出现绝不是偶然的，它是众多人员经过顽强坚持才换来的成果。并且，这并非是终点，仅仅是一个新的开端。
前路漫漫，不过就当下而言，中国已然登上了擂台，距离与世界顶级选手一较高下的日子已经不远了。
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